感光性樹脂組成物、これを用いた感光性エレメント、レジストパターンの製造法、レジストパターン及びレジストパターン積層基板

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-189551
公開番号（公開出願番号）：特開2002-006488
特許番号：特許第4534313号
出願日： 2000年06月23日
公開日（公表日）： 2002年01月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 (A)リン含有感光性樹脂及び(B)光重合開始剤を含有してなり、かつ前記(A)リン含有感光性樹脂が、(a)分子内に少なくとも1個のエポキシ基を有するリン酸エステル、又は無水リン酸と多官能エポキシ樹脂とを反応させて得られるリン含有エポキシ樹脂、の何れかからなるリン含有化合物と(b)不飽和モノカルボン酸との反応物に(c)飽和又は不飽和多塩基酸無水物を付加反応して得られるものである感光性樹脂組成物。

IPC (1件)：