特許

J-GLOBAL ID：201103036838924040

スペクトル純度フィルタ、リソグラフィ装置およびスペクトル純度フィルタを製造する方法

発明者： ヤク,マーティン,ヤコブス,ヨハン ,  バニエ,バディム,エヴィジェンエビッチ ,  ヴァン ハーペン,マーテン,マリヌス,ヨハネス,ウィルヘルムス ,  スール,ワウター,アントン ,  グルスコフ,デニス,アレキサンドロヴィッチ ,  ヤクニン,アンドレイ,ミクハイロヴィッチ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (2件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-141165
公開番号（公開出願番号）：特開2011-014899
出願日： 2010年06月22日
公開日（公表日）： 2011年01月20日
要約：

【課題】水素ラジカル大気における反射コーティングのシリサイド化に関連する欠点を伴わずに、効率的および製造が容易であるEUVスペクトル純度フィルタを提供する。【解決手段】透過型スペクトル純度フィルタは、極端紫外線を透過させるように構成されている。スペクトル純度フィルタは、極端紫外線を透過させ、かつ第2のタイプの放射の透過を抑制するために複数のアパーチャを有するフィルタ部分を含む。アパーチャは、異方性エッチングプロセスによってシリコンなどのキャリア材料において製造されてもよく、またMo金属、Ru金属、TiNまたはRuOなどの反射層によって頂部が覆われてもよい。窒化珪素Si3N4または二酸化珪素SiO2などの拡散バリア層は、高温下における金属の拡散およびシリサイド化を防ぐために金属と半導体との間に設けられる。【選択図】図10

請求項（抜粋）：

極端紫外線を透過させるスペクトル純度フィルタであって、前記スペクトル純度フィルタは、 極端紫外線を透過させ、かつ第2のタイプの放射の透過を抑制するために複数のアパーチャを有するフィルタ部分を含んでおり、前記フィルタ部分はキャリア材料を含み、前記スペクトル純度フィルタは、その表面の少なくとも一部に前記第2のタイプの放射に対して不透明である材料層が設けられており、異なる材料のバリア層が、前記不透明材料と前記キャリア材料との間に設けられ、それによって高温下における前記不透明材料への前記キャリア材料の拡散を阻止する、スペクトル純度フィルタ。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  G21K 3/00 ,  G02B 5/20

FI (4件)：

H01L21/30 531S ,  G21K3/00 S ,  G21K3/00 M ,  G02B5/20

Fターム (6件)：

2H048AA07 ,  2H048AA09 ,  2H048AA16 ,  2H048AA19 ,  2H048AA29 ,  5F046GC05