特許

J-GLOBAL ID：201103036899671374

情報記録ディスク製造装置及び製造方法並びにプラズマアッシング方法

発明者： 佐々木 宏美 ,  渡辺 直樹 ,  古川 真司 ,  渡部 修
出願人/特許権者： キヤノンアネルバ株式会社
代理人 (1件)： 中西 次郎
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-186624
公開番号（公開出願番号）：特開2002-008226
特許番号：特許第4227720号
出願日： 2000年06月21日
公開日（公表日）： 2002年01月11日
請求項（抜粋）：

【請求項1】内部に配置された電極に高周波電力を供給してプラズマを発生させ、基板上にカーボン膜を形成するプラズマCVD室を含む複数の真空室を有し、該複数の真空室のそれぞれに敷設されたレール上を基板搭載キャリアを受け渡しながら移動させ、各真空室で基板に所定の処理を行う情報記録ディスクの製造方法であって、前記プラズマCVD室に酸素ガスを導入し、前記電極に高周波電力を供給して酸素プラズマを発生させるとともに、前記プラズマCVD室内のレールに負のバイアス電圧を印加して内部に付着したカーボン膜を除去する工程を含むことを特徴とする情報記録ディスクの製造方法。

IPC (3件)：

G11B 5/84 ( 200 6.01) ,  C23C 16/26 ( 200 6.01) ,  C23C 16/44 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G11B 5/84 B ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/44 J