特許
J-GLOBAL ID：201103037163947018
プロピレンオキサイドの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
久保山 隆
, 中山 亨
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-083960
公開番号（公開出願番号）：特開2001-270875
特許番号：特許第4013443号
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月02日
請求項（抜粋）：
【請求項1】アルカリを用いる酸化工程及び/又は酸化工程後とエポキシ化工程の間にアルカリ洗浄工程を有し、下記の工程を含むプロピレンオキサイドの製造方法であって、エポキシ化工程に供されるイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドを含む溶液中のナトリウムの濃度が1000重量ppm以下であるプロピレンオキサイドの製造方法。
酸化工程:イソプロピルベンゼンを酸化することによりイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドを得る工程
エポキシ化工程:酸化工程で得たイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイドとプロピレンとを反応させることによりプロピレンオキサイド及びクミルアルコールを得る工程
水素化分解工程:エポキシ化工程で得たクミルアルコールを水素化分解することによりイソプロピルベンゼンを得、該イソプロピルベンゼンを酸化工程の原料として酸化工程へリサイクルする工程
IPC (4件)：
C07D 301/19 ( 200 6.01)
, B01J 21/08 ( 200 6.01)
, C07D 303/04 ( 200 6.01)
, C07B 61/00 ( 200 6.01)
C07D 301/19
, B01J 21/08 X
, C07D 303/04
, C07B 61/00 300
