特許

J-GLOBAL ID：201103037695987522

水素発生方法及び装置

発明者： 須田 精二郎
出願人/特許権者： 株式会社水素エネルギー研究所
代理人 (2件)： 阿形 明 ,  水口 崇敏
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-344068
公開番号（公開出願番号）：特開2003-146605
特許番号：特許第4081262号
出願日： 2001年11月09日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
請求項（抜粋）：

【請求項1】金属水素錯化合物のアルカリ水溶液を触媒体と接触させて水素ガスを発生させる方法において、金属水素錯化合物のアルカリ水溶液を含む原料貯蔵帯域と、下部を触媒体層とし上部を空間部に形成した水素発生帯域とを上下に隔離した状態で配置し、水素ガス発生時には、上方の原料貯蔵帯域から金属水素錯化合物のアルカリ水溶液の調整された量を下方の水素発生帯域に供給し、触媒体との接触面積に応じて所望量の水素ガスを発生させ、水素ガス発生の減量又は停止時には、原料貯蔵帯域と水素発生帯域とを上下逆転して水素発生帯域の触媒体と金属水素錯化合物のアルカリ水溶液との間の接触面積を減少又は接触を遮断させ、水素ガスの発生を減量又は停止させることを特徴とする水素発生方法。

IPC (3件)：

C01B 3/06 ( 200 6.01) ,  B01J 7/02 ( 200 6.01) ,  C01B 3/04 ( 200 6.01)

FI (3件)：

C01B 3/06 ,  B01J 7/02 Z ,  C01B 3/04 Z