インプリント方法およびインプリント装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：阿部琢磨 , 黒岩創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2011-092154
公開番号（公開出願番号）：特開2011-181944
出願日： 2011年04月18日
公開日（公表日）： 2011年09月15日
要約：

【課題】新規なインプリント方法およびインプリント装置を提供すること。【解決手段】本発明の第1の側面は、モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、インプリント方法である。【選択図】図20

請求項（抜粋）：

モールドに形成されたパターンを基板上の樹脂にインプリントするインプリント方法であって、該モールドに設けられているアライメントマークを撮像素子で撮像する場合に、該モールドと該基板との間のギャップに応じて、該撮像素子に入射する光の波長を制御する、ことを特徴とするインプリント方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 , B29C 59/02

FI (3件)：

H01L21/30 502D , B29C59/02 Z , H01L21/30 525F

Fターム (16件)：

4F209AA43 , 4F209AA44 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AH73 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PN06 , 4F209PN09 , 4F209PN13 , 4F209PQ11 , 5F146AA31 , 5F146EC03 , 5F146FA06

引用特許：

審査官引用 (9件)

室温かつ低圧マイクロおよびナノ転写リソグラフィのためのテンプレート
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-566722 出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
アライメント装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-165978 出願人：株式会社ニコン
インプリント方法及びインプリント装置、インプリント方法を用いた部材の製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2012-130289 出願人：キヤノン株式会社

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