異方性解析方法及び異方性解析装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村興作
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-323520
公開番号（公開出願番号）：特開2002-131225
特許番号：特許第3479685号
出願日： 2000年10月24日
公開日（公表日）： 2002年05月09日
請求項（抜粋）：

【請求項1】偏光面が互いに所定の角度をなして交差する同一波長の2つの光を、異方性を測定すべき試料の同一部分に同時に入射させるとともに、前記試料を透過してきた前記2つの光の一方の偏光面を前記所定の角度回転させることにより、前記2つの光の前記一方の偏光面を前記2つの光の他方の偏光面と一致させた状態で前記2つの光を重畳させ、この重畳させた光の干渉縞を観察することにより、前記試料の異方性を解析することを特徴とする、異方性解析方法。

IPC (3件)：