特許

J-GLOBAL ID：201103038706569090

一級アミンの製造方法および接触還元用触媒

発明者： 永井 直文
出願人/特許権者： 川研ファインケミカル株式会社
代理人 (3件)： 水野 勝文 ,  岸田 正行 ,  高野 弘晋
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-129904
公開番号（公開出願番号）：特開2001-302595
特許番号：特許第4418080号
出願日： 2000年04月28日
公開日（公表日）： 2001年10月31日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ニトリルを接触還元して一級アミンを製造する方法において、接触還元用触媒とシアン酸および/またはシアン酸塩の共存下、ニトリルを水素で接触還元することを特徴とする一級アミンの製造方法。

IPC (4件)：

C07C 209/48 ( 200 6.01) ,  B01J 27/26 ( 200 6.01) ,  C07C 211/27 ( 200 6.01) ,  C07B 61/00 ( 200 6.01)

FI (4件)：

C07C 209/48 ,  B01J 27/26 Z ,  C07C 211/27 ,  C07B 61/00 300

引用特許：

出願人引用 (3件)

• アミノニトリルの生成
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-613815   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 特開昭50-050327
  
• 特開昭62-099349
  

審査官引用 (3件)

• アミノニトリルの生成
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2000-613815   出願人：イー・アイ・デュポン・ドウ・ヌムール・アンド・カンパニー
• 特開昭50-050327
  
• 特開昭62-099349