特許

J-GLOBAL ID：201103038738305540

美容装置

発明者： 奥野 要 ,  長田 光司
出願人/特許権者： パナソニック電工株式会社
代理人 (2件)： 恩田 博宣 ,  恩田 誠
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-067288
公開番号（公開出願番号）：特開2011-194173
出願日： 2010年03月24日
公開日（公表日）： 2011年10月06日
要約：

【課題】美容装置において、電極及び肌間の電流集中を抑制することにある。【解決手段】制御装置11は、何れかのRF電極に肌が接触していない旨判断すると、肌及びRF電極の接触面積が不十分であるとして、両電極群28,29に高周波電流を供給しない。これにより、肌が一部のRF電極に接触した状態において、その接触部分に電流が集中することが抑制される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

皮膚との接触を介して皮膚に電流を供給する複数の電極と、 前記電極への電流の供給を制御する制御装置と、 前記電極と皮膚との接触を検出する接触センサと、を備え、 前記制御装置は、前記接触センサの検出結果に基づき判断される前記電極及び皮膚の接触面積に応じて前記電極へ供給する電流を制御する美容装置。

IPC (2件)：

A61N 1/06 ,  A61N 5/06

FI (2件)：

A61N1/06 ,  A61N5/06 D

Fターム (7件)：

4C053DD03 ,  4C053DD07 ,  4C082PA06 ,  4C082PC10 ,  4C082PE03 ,  4C082PJ11 ,  4C082PL10