偏向系描画フィールドの歪補正方法

発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-037423
公開番号（公開出願番号）：特開平2-216815
特許番号：特許第2582152号
出願日： 1989年02月17日
公開日（公表日）： 1990年08月29日
請求項（抜粋）：

【請求項1】複数種類のイオンを発生するイオン源と、該イオンの内、特定質量のイオンを描画材料方向に向ける為のイオン選択器を備えたイオンビーム描画装置によりマークが形成されていない描画材料上にパターンを描画する際、(a)前記イオン選択器により相対的に軽質量のイオンを選択し、前記マークが形成されていない描画材料を載置した材料ステージ上に設けられた基準マークをステージ移動と前記選択された軽質量のイオンビーム走査により偏向系描画フィールド内の複数箇所において位置検出し、該各検出値に基づいて偏向系描画フィールドのステージ座標系に対する歪補正値を求め、該歪補正値を偏向系に与える事により該歪を補正し、(b)次に、前記イオン選択器により相対的に重質量のイオンを選択し、前記歪補正を施した偏向系描画フィールドの中心とマークの中心とが一致するように前記選択された重質量のイオンビームの照射により前記描画材料上にマークを描画し、(c)次に、前記イオン選択器により相対的に軽質量のイオンを選択し、前記描画材料上に描画されたマークをステージ移動と前記選択された軽質量のイオンビーム走査により偏向系描画フィールド内の複数箇所において位置検出し、該各検出値に基づいて前記描画材料面上における偏向系描画フィールドのステージ座標系に対する歪補正値を求め、該歪補正値を偏向系に与えて該歪を補正する事により偏向系描画フィールドの歪を補正する方法。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (1件)：

H01L 21/30 541 D

引用特許：

審査官引用 (2件)

特開昭57-145324
特開昭54-052474

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