基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：井上俊夫 , 水野洋美
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-298503
公開番号（公開出願番号）：特開2001-118782
特許番号：特許第4030697号
出願日： 1999年10月20日
公開日（公表日）： 2001年04月27日
請求項（抜粋）：

【請求項1】基板を収納した基板カセットを載置する載置部と、この載置部に載置された基板カセットに対して基板の受け渡しをする受け渡し手段と、を含むカセットステ-ションと、このカセットステ-ションに接続され、前記受け渡し手段により搬送された基板を処理する処理ステ-ションと、を有し、前記処理ステ-ションは、複数段に積み重ねられると共に横方向に直線状に複数配置され、各々処理液により基板に対して処理を行う液処理ユニットと、これら液処理ユニットに対して基板の搬出入を行う搬送手段と、前記処理液を収納する容器が収納され、複数段に積み重ねられた液処理ユニット毎に当該液処理ユニットの隣または下方側に設けられた容器収納部と、を備えたことを特徴とする基板処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ( 200 6.01) , G03F 7/16 ( 200 6.01) , G03F 7/30 ( 200 6.01) , H01L 21/677 ( 200 6.01)

FI (4件)：

H01L 21/30 562 , G03F 7/16 501 , G03F 7/30 501 , H01L 21/68 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

ケミカルキャビネット
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-002612 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-348773 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-167336 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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審査官引用 (2件)

ケミカルキャビネット
公報種別：公開公報出願番号：特願平10-002612 出願人：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-348773 出願人：大日本スクリーン製造株式会社

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