特許

J-GLOBAL ID：201103039607053623

モノハイドロジェン(トリオルガノシロキシ)オルガノシランの製造方法

発明者： 茂木 久雄
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨
公報種別：特許公告
出願番号（国際出願番号）：特願平1-137171
公開番号（公開出願番号）：特開平3-002188
出願日： 1989年05月30日
公開日（公表日）： 1991年01月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】(A) 一般式HSi▲R13-n▼Cln(式中、R1は置換または非置換の1価の炭化水素基、nは1,2または3の数である)で示されるモノハイドロジェンオルガノクロロシランと(B) 一般式(▲R23▼Si)mNH3-m(式中、R2は置換または非置換の1価の炭化水素基、mは1または2の数である)で示されるオルガノシラザンとを共加水分解することによって、(C) 一般式HSi▲R13-n▼(OSi▲R23▼)n(式中、R1,R2およびnは前記と同じ)で示されるモノハイドロジェン(トリオルガノシロキシ)オルガノシランを製造する方法において、(A)のモノハイドロジェンオルガノクロロシラン1モルと、(A)成分中のクロル1個当たり1.0〜1.2個になる量のトリオルガノシリル基を与えるオルガノシラザンとを、炭酸塩又は炭酸水素塩の存在下に共加水分解することを特徴とするモノハイドロジェン(トリオルガノシロキシ)オルガノシランの製造方法。

IPC (1件)：

C07F 7/08 X