特許
J-GLOBAL ID：201103039966454722
金属パターン形成用組成物およびこれを利用した金属パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
八田国際特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-203751
公開番号（公開出願番号）：特開2011-061208
出願日： 2010年09月10日
公開日（公表日）： 2011年03月24日
要約：
【課題】本発明の目的は、均一でかつ酸化安定性に優れており、金属イオンの含有量の高い金属パターン形成用組成物を提供することである。 本発明の他の目的は、環境親和的であり、経済的かつ安全であって、多様な金属パターン形成に用いることができる、低温焼成が可能な金属パターンの製造方法を提供することである。 本発明のまた他の目的は、導電性に優れた金属パターンを提供することである。【解決手段】本発明によれば、導電性金属または導電性金属化合物、カルボン酸-アミン塩を含む金属パターン形成用組成物が提供される。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
導電性金属または導電性金属化合物、およびカルボン酸-アミン塩を含む金属パターン形成用組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (23件)：
4E351BB01
, 4E351BB31
, 4E351CC11
, 4E351CC22
, 4E351DD04
, 4E351DD21
, 4E351DD52
, 4E351EE03
, 4E351EE11
, 4E351GG16
, 4E351GG20
, 5E343BB24
, 5E343BB52
, 5E343BB76
, 5E343DD01
, 5E343DD12
, 5E343ER33
, 5E343ER39
, 5E343FF01
, 5E343FF05
, 5E343FF11
, 5E343GG11
, 5E343GG20
