特許
J-GLOBAL ID:201103040080059693

成膜方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 上柳 雅誉 ,  須澤 修
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-153985
公開番号(公開出願番号):特開2000-345398
特許番号:特許第3589090号
出願日: 1999年06月01日
公開日(公表日): 2000年12月12日
請求項(抜粋):
【請求項1】溶液中に存在する成分を基材の表面に析出させて成膜する成膜方法において、前記溶液を脱ガスしたのち、前記成膜する膜の種類または成膜する膜の特性に応じて予め定めたガス種を前記溶液に溶解させつつ、または溶解させたのちに前記成分を析出させることを特徴とする成膜方法。
IPC (5件):
C25D 21/04 ,  C23C 18/16 ,  C23C 18/31 ,  C23C 18/40 ,  C25D 5/04
FI (5件):
C25D 21/04 ,  C23C 18/16 B ,  C23C 18/31 Z ,  C23C 18/40 ,  C25D 5/04

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