特許
J-GLOBAL ID：201103040435645033
固体副生成物の除去工程を含んでなる、硫化水素および二酸化硫黄含有ガスの処理方法ならびに装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
宮崎 昭夫
, 金田 暢之
, 石橋 政幸
, 伊藤 克博
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-286377
公開番号（公開出願番号）：特開2000-119010
特許番号：特許第4450901号
出願日： 1999年10月07日
公開日（公表日）： 2000年04月25日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 好適な温度で、少なくとも1種の触媒を含有する有機溶媒にガスを接触させ、実質的にもはや硫化水素および二酸化硫黄を含まない流出ガスを回収する接触工程と、その溶媒から液-液デカンテーションにより液体硫黄を分離する分離工程とを有する、少なくとも硫化水素(H2S)および少なくとも二酸化硫黄(SO2)を含有するガスを処理する方法であって、
副生成物を含む層が、分離した液体硫黄と溶媒の間にあること、
前記副生成物を含む層から少なくとも固体の副生成物を含有する液体画分Fを抜き取ること、および
前記液体画分Fを前記接触工程とは異なる処理工程に送り、その後少なくとも大部分が副生成物からなるF1流と、大部分が副生成物をほとんど含まない溶媒からなるF2流を回収すること
を特徴とする方法。
IPC (5件)：
C01B 17/04 ( 200 6.01)
, B01D 53/50 ( 200 6.01)
, B01D 53/52 ( 200 6.01)
, B01D 53/77 ( 200 6.01)
, B01D 53/86 ( 200 6.01)
C01B 17/04 C
, B01D 53/34 121 F
, B01D 53/36 ZAB D
