特許
J-GLOBAL ID:201103040646665219
排ガス浄化触媒及びその製造方法
発明者:
,
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
岸本 達人
, 星野 哲郎
, 山下 昭彦
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-208017
公開番号(公開出願番号):特開2011-056379
出願日: 2009年09月09日
公開日(公表日): 2011年03月24日
要約:
【課題】排ガスの酸化活性に優れた排ガス浄化触媒及びその製造方法を提供する。【解決手段】担体に担持あるいは非担持の元素モル比Pd:Au=99mol%:1mol%〜70mol%:30mol%のパラジウムと金を含む合金であり、パラジウム化合物、金化合物、及び、パラジウム元素及び金元素の少なくともいずれか一方の元素に対して配位能を有する高分子化合物を液体中に分散、加熱することにより製造する。得られた分散液に必要であれば担体を加えた後に、加熱してもよい。【選択図】図1
請求項(抜粋):
パラジウムと金を含む合金を有することを特徴とする、排ガス浄化触媒。
IPC (4件):
B01J 23/52
, B01J 37/08
, B01D 53/94
, F01N 3/10
FI (4件):
B01J23/52 A
, B01J37/08
, B01D53/36 104Z
, F01N3/10 A
Fターム (46件):
3G091AB02
, 3G091BA15
, 3G091BA19
, 3G091BA39
, 3G091FB10
, 3G091GB05W
, 3G091GB07W
, 4D048AA13
, 4D048AB01
, 4D048BA03X
, 4D048BA06X
, 4D048BA31X
, 4D048BA34X
, 4D048BA41X
, 4D048BB01
, 4D048DA11
, 4G169AA02
, 4G169AA03
, 4G169AA08
, 4G169BA01B
, 4G169BA02B
, 4G169BA22C
, 4G169BA27C
, 4G169BB02A
, 4G169BB02B
, 4G169BC33A
, 4G169BC33B
, 4G169BC72A
, 4G169BC72B
, 4G169CA02
, 4G169CA03
, 4G169CA07
, 4G169CA14
, 4G169DA03
, 4G169EA02Y
, 4G169EA04Y
, 4G169FA01
, 4G169FA02
, 4G169FB04
, 4G169FB15
, 4G169FB29
, 4G169FB36
, 4G169FB45
, 4G169FB46
, 4G169FC04
, 4G169FC08
引用特許:
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