特許

J-GLOBAL ID：201103041405129436

位相シフトマスク及びその製造方法

発明者： 岡崎 智 ,  金子 英雄 ,  丸山 保 ,  稲月 判臣
出願人/特許権者： 信越化学工業株式会社
代理人 (2件)： 小島 隆司 ,  西川 裕子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-139597
公開番号（公開出願番号）：特開2000-330256
特許番号：特許第4143785号
出願日： 1999年05月20日
公開日（公表日）： 2000年11月30日
請求項（抜粋）：

【請求項1】露光光が透過する基板上に第2光透過部の位相シフターを形成してなる位相シフトマスクにおいて、上記位相シフターをガドリニウム・ガリウム・ガーネットにて形成したことを特徴とする位相シフトマスク。

IPC (2件)：

G03F 1/08 ( 200 6.01) ,  C23C 14/34 ( 200 6.01)

FI (3件)：

G03F 1/08 A ,  C23C 14/34 A ,  C23C 14/34 M