露光用マスク材料

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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-119050
公開番号（公開出願番号）：特開2000-310846
特許番号：特許第4152523号
出願日： 1999年04月27日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：

【請求項1】ガラス基材上に金属銀画像が形成されている露光用マスクにおいて、ガラス基材とハロゲン化銀乳剤層の間に物理現像核層を有し、かつ、ガラス基材と物理現像核層の間に二酸化チタンを主成分とする金属酸化物のみで構成される層を含有する露光用マスク材料を物理現像することによりガラス基材上に厚さ0.5ミクロン以下で最高光学濃度が1.0以上である金属銀画像が形成され、次いで、ハロゲン化銀乳剤層を除去することにより、ガラス基材上の金属銀画像及び非画像部に実質的に水溶性ゼラチンが残留しないことを特徴とする露光用マスク。

IPC (3件)：