特許

J-GLOBAL ID：201103041794547990

酸化物光学薄膜の形成方法及び酸化物光学薄膜の形成装置

発明者： 野副 尚一 ,  山田 泰美 ,  宇山 晴夫
出願人/特許権者： 工業技術院長 ,  凸版印刷株式会社 ,  野副 尚一
代理人 (2件)： 秋元 輝雄 (外1名) ,  秋元 輝雄
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-038608
公開番号（公開出願番号）：特開2000-239830
特許番号：特許第3128554号
出願日： 1999年02月17日
公開日（公表日）： 2000年09月05日
請求項（抜粋）：

【請求項1】 酸素を流すことで所定の圧力に設定して高周波放電により酸素プラズマを生成する第1真空槽と、この第1真空槽が連結されるとともに、第1真空槽より高真空に設定された内部に被成膜物と、電子ビームにより蒸発粒子を前記被成膜物上へ蒸発させる蒸発源とが設置された第2真空槽とを備えた酸化物光学薄膜の形成装置において、前記第1真空槽に径0.3mm以下のオリフィスを設けた誘電体板を設置し、前記第1真空槽中で高周波放電により生成した酸素プラズマを前記オリフィスを介することで酸素ラジカルに支配的なプラズマ流として前記第2真空槽中の被成膜物上に照射し、前記蒸発粒子をこのプラズマ流を通過・混合させて成膜を行うことを特徴とする酸化物光学薄膜の形成装置。

IPC (3件)：

C23C 14/30 ,  C23C 14/08 ,  G02B 1/11

FI (3件)：

C23C 14/30 Z ,  C23C 14/08 E ,  G02B 1/10 A