特許
J-GLOBAL ID：201103041846040724
成膜方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
外川 英明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-370935
公開番号（公開出願番号）：特開2001-189274
特許番号：特許第3591823号
出願日： 1999年12月27日
公開日（公表日）： 2001年07月10日
請求項（抜粋）：
【請求項1】内部に被成膜体が載置可能な反応容器に、前記被成膜体上に第1の反応生成物を形成する第1の気体と、前記第1の気体の付着確率に比べて付着確率が大きく、かつ前記第1の反応生成物の前記被成膜体への付着を抑制する第2の反応生成物を分解形成する第2の気体とを供給して、前記被成膜体上に所望の成膜を行う成膜方法において、前記第1の気体および前記第2の気体を前記反応容器に供給し、前記被成膜体上に所望の成膜を行う成膜工程中に少なくとも1回、前記第2の気体のみ、または前記第2の気体を前記成膜工程のガス比率より多く前記反応容器に供給して前記第1の反応生成物の前記被成膜体への付着を抑制する工程を有すると共に、前記被成膜体表面に存在する段差のアスペクト比ARと、前記第2の気体の付着確率ηBとが、ηB>0.0406×AR-1.86なる関係を有し、かつ、前記第1の気体の付着確率ηAが、前記第2の気体の付着確率ηBより小さいことを特徴とする成膜方法。
IPC (1件)：
FI (1件)：
引用特許：
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