特許
J-GLOBAL ID：201103042171538384
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-369340
公開番号（公開出願番号）：特開2003-167347
特許番号：特許第3803286号
出願日： 2001年12月03日
公開日（公表日）： 2003年06月13日
請求項（抜粋）：
【請求項1】(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位を主鎖に有し、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)とを、有機溶剤(C)に溶解してなるポジ型レジスト組成物であって、
樹脂成分(A)が、多環式基含有酸解離性溶解抑制基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a1)、ラクトン含有単環又は多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a2)、水酸基含有多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a3)、及びこれら単位(a1)、単位(a2)、単位(a3)以外の多環式基を含む(メタ)アクリル酸エステルから誘導される単位(a4)を含む共重合体であることを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (5件)：
G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/004 ( 200 6.01)
, C08F 220/18 ( 200 6.01)
, C08F 220/28 ( 200 6.01)
, H01L 21/027 ( 200 6.01)
G03F 7/039 601
, G03F 7/004 501
, C08F 220/18
, C08F 220/28
, H01L 21/30 502 R
