特許

J-GLOBAL ID：201103042499472666

滅菌装置

発明者： 木村 和宏 ,  奥村 成喜
出願人/特許権者： 株式会社サイアン
代理人 (3件)： 小谷 悦司 ,  小谷 昌崇 ,  西谷 浩治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-202938
公開番号（公開出願番号）：特開2011-050602
出願日： 2009年09月02日
公開日（公表日）： 2011年03月17日
要約：

【課題】滅菌処理後のガスを排気するためのポンプの腐食を防止し、かつ、滅菌処理後のガスを確実に排気する。【解決手段】真空ポンプP52を停止させた状態で、吸気系統20からサブチャンバ12を介してメインチャンバ11に空気を供給する第1処理と、真空ポンプP52を停止させた状態で、耐薬ポンプP51がメインチャンバ11内の滅菌処理後のガスを排気部53に搬入させて排気させる第2処理とを所定サイクル繰り返す。第1制御部72による処理が終了した後、真空ポンプP52が稼働され、メインチャンバ11内の滅菌処理後のガスが排気部53に搬入され、急速に排気される。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

被処理物が収納され、滅菌剤を用いて前記被処理物を滅菌する滅菌処理部と、 前記滅菌処理部内の滅菌処理後のガスに所定の無害化処理を施して排気するする排気部と、 耐薬ポンプが配置され、前記滅菌処理部内の滅菌処理後のガスを前記排気部に搬入する第1配管と、 真空ポンプが配置され、前記滅菌処理部内の滅菌処理後のガスを前記排気部に搬入する第2配管とを備えることを特徴とする滅菌装置。

IPC (1件)：

A61L 2/20

FI (2件)：

A61L2/20 C ,  A61L2/20 G

Fターム (7件)：

4C058AA12 ,  4C058AA25 ,  4C058BB07 ,  4C058DD12 ,  4C058EE26 ,  4C058JJ16 ,  4C058JJ29