垂直磁気記録二層媒体の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：杉村暁秀 (外5名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-299743
公開番号（公開出願番号）：特開平3-160616
特許番号：特許第2798745号
出願日： 1989年11月20日
公開日（公表日）： 1991年07月10日
請求項（抜粋）：

【請求項1】非磁性基板上の膜面内に磁化容易軸を有する低保磁力磁性層と、膜面に垂直方向の磁化容易軸を有し飽和磁化のより小さい下地層と飽和磁化のより大きい上部層の二層からなる磁気記録磁性層とを順次形成してなる磁気記録媒体を製造するにあたり、順次に形成される前記低保磁力磁性層及び前記磁気記録磁性層はスパッタリング法により形成され、さらに、前記磁気記録磁性層のスパッタリングに際しては、該磁性層の下地層と上部層とが対向ターゲットスパッタ装置の一対のターゲットの強磁性材料の組成をそれぞれ変えることにより引続き順次に形成されることを特徴とする垂直磁気記録二層媒体の製造方法。

IPC (1件)：