特許

J-GLOBAL ID：201103042617320647

金属酸化物含有酸化チタン化合物の製造方法

発明者： 吉田 琢磨 ,  藤田 孝
出願人/特許権者： 東邦チタニウム株式会社
代理人 (4件)： 赤塚 賢次 ,  福田 保夫 ,  阪田 泰之 ,  渋谷 健
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-214686
公開番号（公開出願番号）：特開2011-063473
出願日： 2009年09月16日
公開日（公表日）： 2011年03月31日
要約：

【課題】可視光照射下で光触媒として用いたときに、殺菌速度と有害ガス分解速度に優れる金属酸化物含有酸化チタン化合物を製造する方法を提供する。【解決手段】X線回折分析による(101)面の回折ピークの半値幅が1.40°以下である原料酸化チタンと、チタン以外の金属の酸化物とを混合し、得られた混合物を300°C〜600°Cで焼成することを特徴とする金属酸化物含有酸化チタン化合物の製造方法である。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

X線回折分析による(101)面の回折ピークの半値幅が1.40°以下である原料酸化チタンと、チタン以外の金属の酸化物とを混合し、得られた混合物を300°C〜600°Cで焼成することを特徴とする金属酸化物含有酸化チタン化合物の製造方法。

IPC (5件)：

C01G 23/00 ,  B01J 35/02 ,  B01J 27/043 ,  B01J 27/02 ,  B01J 27/24

FI (6件)：

C01G23/00 Z ,  C01G23/00 D ,  B01J35/02 J ,  B01J27/043 M ,  B01J27/02 M ,  B01J27/24 M

Fターム (33件)：

4G047CA01 ,  4G047CA03 ,  4G047CB08 ,  4G047CB09 ,  4G047CC03 ,  4G047CD04 ,  4G047CD07 ,  4G169AA02 ,  4G169BA04A ,  4G169BA04B ,  4G169BB04A ,  4G169BB04B ,  4G169BC31A ,  4G169BC31B ,  4G169BC66A ,  4G169BC66B ,  4G169BD08B ,  4G169CB35 ,  4G169DA05 ,  4G169EA01Y ,  4G169EC02Y ,  4G169EC22Y ,  4G169FA01 ,  4G169HA01 ,  4G169HB02 ,  4G169HB03 ,  4G169HB06 ,  4G169HB10 ,  4G169HC02 ,  4G169HD03 ,  4G169HD04 ,  4G169HE07 ,  4G169HE20