特許
J-GLOBAL ID：201103043688219692
反射防止膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-118824
公開番号（公開出願番号）：特開2000-308846
特許番号：特許第4672095号
出願日： 1999年04月26日
公開日（公表日）： 2000年11月07日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 反射防止膜の少なくとも片面に、高周波放電プラズマ法、コロナ処理法の何れかの前処理し、
この前処理した反射防止膜表面に一般式(1)で示される有機シラン化合物からなる防汚剤を1Pa以下の圧力において、加熱し、蒸発させ、防汚層を成膜することを特徴とする反射防止膜の製造方法。
Rf-(OC3F6)n-O-(CF2)m-(CH2)l-O-(CH2)s-Si(R)3
・・・(1)
(但し、Rfは炭素数1〜16の直鎖状または分岐状パーフルオロアルキル基、nは1〜50の整数、mは0〜3の整数、lは1〜3の整数、sは1〜6の整数、但し、6≧m+l>0、Rは加水分解基を示す。)
IPC (7件)：
B05D 5/00 ( 200 6.01)
, B05D 3/10 ( 200 6.01)
, C09D 5/16 ( 200 6.01)
, C09D 183/00 ( 200 6.01)
, C09K 3/00 ( 200 6.01)
, C09K 3/18 ( 200 6.01)
, G02B 1/10 ( 200 6.01)
B05D 5/00 H
, B05D 3/10 Z
, C09D 5/16
, C09D 183/00
, C09K 3/00 112 F
, C09K 3/18 104
, G02B 1/10 Z
