特許
J-GLOBAL ID：201103044186431406
電気光学装置の製造方法及び製造装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
上柳 雅誉
, 藤綱 英吉
, 須澤 修
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-103844
公開番号（公開出願番号）：特開2001-290117
特許番号：特許第3823677号
出願日： 2000年04月05日
公開日（公表日）： 2001年10月19日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 アライメントマークが形成された第1基板を吸着保持体により吸着保持する工程と、
前記吸着保持体に前記第1基板を吸着保持した状態で、前記アライメントマークの位置を検出する工程と、
前記検出された位置情報と対比情報とを比較し、補正情報を算出する工程と、
前記補正情報を搬送機構に伝送し、前記補正情報に基づいて前記吸着保持体により吸着保持した状態で前記第1基板を仮位置合わせの位置に搬送し、第2基板上に前記第1基板を配置する工程と、
前記第1基板と前記第2基板とを仮接着する工程と、
前記仮接着後、荷重をかけた状態で前記吸着保持体による吸着を解除し、荷重を維持した状態で所定時間放置して前記第1基板と前記吸着保持体を離間する工程と
を具備することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
IPC (3件)：
G02F 1/13 ( 200 6.01)
, G02F 1/1339 ( 200 6.01)
, G09F 9/00 ( 200 6.01)
G02F 1/13 101
, G02F 1/133 505
, G09F 9/00 338
, G09F 9/00 342 Z
