特許
J-GLOBAL ID：201103044750347780
露光装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-159031
公開番号（公開出願番号）：特開2011-013565
出願日： 2009年07月03日
公開日（公表日）： 2011年01月20日
要約：
【課題】大型化の方向にあるマスクよりも更に大きな基板への露光であっても、微細なドットパターンが転写されることのない露光装置を提供する。【解決手段】露光装置において、マスク100を下方からマスクホルダへ押し付けるマスクリフタ101と、マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャ102と、マスクの位置の調整の際に、マスクとマスクホルダとの間の摩擦抵抗を低減するためのガスを供給する開口部103-11を備えたマスクホルダを有する。【選択図】図1A
請求項（抜粋）：
マスク吸着穴を備えたマスクホルダと、マスクを下方から前記マスクホルダへ押し付けるマスクリフタと、前記マスクの位置の調整を行なうためのマスクプッシャと、前記マスクに形成されたパターンが転写される基板を載せるためのステージとを有する近接露光を行なう露光装置において、
前記マスクの位置の調整の際に、前記マスクホルダに設けられ、前記マスクと前記マスクホルダとの間の摩擦抵抗を低減するためのガスを供給する開口部を更に有することを特徴とする露光装置。
IPC (1件)：
FI (1件)：
Fターム (6件)：
2H097AB05
, 2H097DA01
, 2H097DA11
, 2H097DA12
, 2H097GA45
, 2H097JA02
