粒子線装置におけるフォーカス調整方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：最上健治
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-114711
公開番号（公開出願番号）：特開2002-313272
特許番号：特許第4163393号
出願日： 2001年04月13日
公開日（公表日）： 2002年10月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】細く絞った電子やイオンの粒子線を試料に照射して試料から発生する2次線を検出する粒子線装置であって、試料面上に照射される粒子線のプローブ径を調整するフォーカス調整手段を備えた粒子線装置におけるフォーカス調整方法において、該粒子線プローブの使用条件によって定まる粒子線プローブの最小プローブ径を算出し、該最小プローブ径に基づいて、所定のフォーカス調整操作に対する該粒子線のプローブ径の変化幅を算出し、該プローブ径の変化幅に基づいて、該粒子線プローブにおけるフォーカス位置の変化幅を算出し、該フォーカス位置の変化幅に基づいて、フォーカス調整手段によるフォーカス調整操作のフォーカス調整量を変化させることを特徴とする粒子線装置におけるフォーカス調整方法。

IPC (2件)：

H01J 37/21 ( 200 6.01) , H01J 37/141 ( 200 6.01)

FI (2件)：

H01J 37/21 B , H01J 37/141 A

引用特許：

出願人引用 (4件)

特開平2-297854
特開平2-100252
粒子線装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-144321 出願人：日本電子株式会社

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審査官引用 (6件)

特開平2-297854
特開平2-297854
特開平2-100252

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