特許
J-GLOBAL ID:201103045045533260

混合ガス生成方法およびその装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 特許業務法人ウィルフォート国際特許事務所 ,  五十嵐 清
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-036771
公開番号(公開出願番号):特開2000-235951
特許番号:特許第4155653号
出願日: 1999年02月16日
公開日(公表日): 2000年08月29日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第1のガスが収容されている第1の容器と、第2のガスが収容されている第2の容器と、前記第1のガスと第2のガスの混合ガスが収容されるべき第3の容器とを用意し、 前記第1の容器は1本以上の第1のパイプを用いて第3の容器に連通接続し、 前記第2の容器は1本以上の第2のパイプを用いて第3の容器に連通接続し、 前記第1の容器と前記第3の容器との間の差圧および前記第2の容器と前記第3の容器との間の差圧が前記第3の容器側を低圧とする既知の値として設定されている条件の下で第1の全てのパイプを流れる第1のガスの流量と第2の全てのパイプを流れる第2のガスの流量の比率が第1のガスと第2のガスの設定混合比となるように第1のパイプと第2のパイプの内径、長さおよび本数を設定しておき、 前記第1の容器と前記第3の容器との間の差圧および前記第2の容器と前記第3の容器との間の差圧が前記既知の値として設定されている条件の下で、第1の容器の第1のガスと第2の容器の第2のガスを前記第1、第2のパイプを通して第3の容器に導入し、第3容器内に第1のガスと第2のガスとの設定混合比の混合ガスを生成する混合ガス生成方法。
IPC (1件):
H01L 21/205 ( 200 6.01)
FI (1件):
H01L 21/205
引用特許:
出願人引用 (1件)
  • 特開平3-219622
審査官引用 (1件)
  • 特開平3-219622

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