特許

J-GLOBAL ID：201103045062363891

ナノインプリント用モールド、その製造方法および表面に微細凹凸構造を有する樹脂成形体ならびにワイヤグリッド型偏光子の製造方法

発明者： 海田 由里子 ,  坂本 寛 ,  見矢木 崇平 ,  高山 公介 ,  志堂寺 栄治
出願人/特許権者： 旭硝子株式会社
代理人 (4件)： 棚井 澄雄 ,  志賀 正武 ,  鈴木 三義 ,  柳井 則子
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2009060289
公開番号（公開出願番号）：WO2009-148138
出願日： 2009年06月04日
公開日（公表日）： 2009年12月10日
要約：

微細凹凸構造を精度よく転写でき、安価で、かつ耐久性の高いナノインプリント用モールド、その製造方法、およびモールドの微細凹凸構造が精度よく転写された表面に微細凹凸構造を有する樹脂成形体ならびにワイヤグリッド型偏光子を生産性よく製造できる方法を提供する。 モールド面に互いに平行にかつ一定のピッチで形成された複数の溝14からなる微細凹凸構造を有するナノインプリント用モールドであって、前記微細凹凸構造のベースとなる微細凹凸構造を表面に有する樹脂製のモールドベース12と、モールドベース12の微細凹凸構造を有する表面を被覆した金属酸化物層16と、金属酸化物層16の表面を被覆した離型層18とを有するナノインプリント用モールド10を用いる。

請求項（抜粋）：

モールド面に微細凹凸構造を有するナノインプリント用モールドであって、 前記微細凹凸構造のベースとなる微細凹凸構造を表面に有する樹脂製のモールドベースと、 前記モールドベースの微細凹凸構造を有する表面を被覆した金属酸化物層と、 前記金属酸化物層の表面を被覆した離型層と を有することを特徴とする、ナノインプリント用モールド。

IPC (5件)：

B29C 59/02 ,  B29C 33/38 ,  B29C 33/42 ,  B29C 33/58 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

B29C59/02 B ,  B29C33/38 ,  B29C33/42 ,  B29C33/58 ,  H01L21/30 502D

Fターム (30件)：

4F202AF01 ,  4F202AG05 ,  4F202AH73 ,  4F202AJ08 ,  4F202AJ09 ,  4F202AR12 ,  4F202CA19 ,  4F202CB01 ,  4F202CD02 ,  4F202CD07 ,  4F202CD08 ,  4F202CD22 ,  4F202CD23 ,  4F209AF01 ,  4F209AG05 ,  4F209AH33 ,  4F209AH73 ,  4F209AJ02 ,  4F209AJ03 ,  4F209AJ08 ,  4F209AJ09 ,  4F209AJ11 ,  4F209PA02 ,  4F209PB01 ,  4F209PC05 ,  4F209PC06 ,  4F209PC07 ,  4F209PC08 ,  4F209PQ11 ,  5F046AA28