特許

J-GLOBAL ID：201103045491584014

フォトレジストシステム

発明者： アタル・ジョエル
出願人/特許権者： アジレント・テクノロジーズ・インク
代理人 (1件)： 加藤 公久
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-178491
公開番号（公開出願番号）：特開2000-029226
特許番号：特許第3164565号
出願日： 1989年03月02日
公開日（公表日）： 2000年01月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】次の(イ)〜(ハ)を備えたフォトレジストシステム:(イ)半導体基板;(ロ)N,N’-ジブチル-N,N’-ジ(1-(4,4’-ジシアノ-1,3-ブタジエン))-1,6-へキサジアミンのグループから選んだ色素と3-(2-ベンゾチアゾリル)-7-(ジエチルアミノ)-2H-1-ベンゾピラン-2-オンとが溶解されたポリメチル・メタクリレートからなる、前記半導体基板上に堆積された下部レジスト層;(ハ)前記下部レジスト層上に堆積され、下記化学構造を有する色素Bを含んだ、エチレン・グリコールのモノ或いはジアルキル・エーテルのアセタート(溶媒)とジアゾ・ナフトキノンを添加したノボラック樹脂を含むレジスト材を含む上部レジスト層;;;化1::

IPC (5件)：

G03F 7/26 511 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/095 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/26 511 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/095 ,  H01L 21/30 573