特許

J-GLOBAL ID：201103045558062107

パターン形成材料、ネガ型レジスト組成物、並びに、当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品

発明者： 奥山 健一
出願人/特許権者： 大日本印刷株式会社
代理人 (2件)： 岸本 達人 ,  山下 昭彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-072206
公開番号（公開出願番号）：特開2011-095702
出願日： 2010年03月26日
公開日（公表日）： 2011年05月12日
要約：

【課題】電子線又はEUVの照射によるパターン形成において、感度及び解像力に優れたパターンを形成可能なパターン形成材料、当該パターン形成材料を用いたネガ型レジスト組成物、及び当該ネガ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法並びに電子部品を提供する。【解決手段】下記化学式(1)で表される環状ポリフェノール誘導体からなる、パターン形成材料である。(化学式(1)中の符号は明細書に記載のとおりである。)【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記化学式(1)で表される環状ポリフェノール誘導体からなる、パターン形成材料。

IPC (4件)：

G03F 7/038 ,  C08G 59/32 ,  C08G 65/18 ,  H01L 21/027

FI (4件)：

G03F7/038 601 ,  C08G59/32 ,  C08G65/18 ,  H01L21/30 502R

Fターム (23件)：

2H125AE06P ,  2H125AF17P ,  2H125AF18P ,  2H125AF46P ,  2H125AF48P ,  2H125AL18 ,  2H125AL20 ,  2H125AN41P ,  2H125CA12 ,  2H125CB16 ,  2H125CC01 ,  2H125CC18 ,  2H125FA05 ,  4J005AA07 ,  4J005BA00 ,  4J005BB02 ,  4J036AB09 ,  4J036AC03 ,  4J036AC05 ,  4J036AC11 ,  4J036GA26 ,  4J036HA02 ,  4J036JA09