特許
J-GLOBAL ID：201103045674534563
欠陥検出方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
ポレール特許業務法人
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-149763
公開番号（公開出願番号）：特開2011-007553
出願日： 2009年06月24日
公開日（公表日）： 2011年01月13日
要約：
【課題】半導体などの回路パターンの検査は、高感度化と高速化が絶えず追求されているが、パターンの微細化に伴い、パターンのラフネス等の違いに起因して、欠陥と正常部の識別が困難となり、検査感度が大きく不足している。【解決手段】正常事例からなる学習データを対象に、観測データと類似したデータを探索し、探索した正常データからの乖離度の大小によって、欠陥を認識するものであり、高感度検査を実現し得る。具体的には、(1)主に正常事例からなる学習データを準備、(2)観測データと類似する学習データの部分空間を生成、(3)観測データから部分空間までの距離を算出、(4)距離の大小により欠陥かどうか判定、からなる手順により実現され、画素ごとにラフネス等に対応した、適切な感度設定が可能となる。なお、上記部分空間以外の方法にても、類似性判断を行う。【選択図】図26A
請求項（抜粋）：
欠陥を検査する方法であって、
試料を検査して得られた検出信号から観測データを取得し、
前記検出信号から前記試料上の欠陥の無い部分を検査して得られる検出信号を学習データとして作成し
該作成した学習データから統計モデルを生成し、
前記統計モデルと前記観測データとの類似度を求め、
該求めた類似度に基づいて前記取得した観測データの中から欠陥の位置を判定する
ことを特徴とする欠陥検査方法。
IPC (1件)：
FI (2件)：
G01N21/956 A
, G01N21/956 Z
2G051AA51
, 2G051AA73
, 2G051AB02
, 2G051BA01
, 2G051BA05
, 2G051BA06
, 2G051BA08
, 2G051BA10
, 2G051BB02
, 2G051BB05
, 2G051CA02
, 2G051CA04
, 2G051CB01
, 2G051CB05
, 2G051EA12
, 2G051EB01
, 2G051ED21
, 2G051ED23
