ブタジエンの製造方法

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人SSINPAT
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-044478
公開番号（公開出願番号）：特開2011-178719
出願日： 2010年03月01日
公開日（公表日）： 2011年09月15日
要約：

【課題】n-ブテンを分子状酸素により気相接触酸化してブタジエンを製造する方法において、活性、ブタジエン選択性、触媒の安定性、触媒寿命などに優れた、経済的に有利なブタジエン製造法を提供する。【解決手段】Mo、Bi、Feを必須成分として含有し、且つNiおよびCoの中から選ばれる1種以上の元素、及び、K、RbおよびCsの中から選ばれる1種以上の元素、さらに、シリカを必須成分として含有し、且つシリカの含有量がある限られた狭い範囲にあり、しかも調製時の焼成温度を特定の範囲とする触媒を用いる。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

下記式(1)で示される複合金属酸化物90〜97重量%およびシリカ3〜10重量%を含有する触媒(但し、下記式(1)で示される複合金属酸化物とシリカとの合計量を100重量%とする。)、ならびに、分子状酸素を用いて、n-ブテンを気相接触酸化するブタジエンの製造方法において、該触媒が、その組成に対応する化合物の混合物を500〜650°Cの温度範囲で焼成してなることを特徴とするブタジエンの製造方法。 Mo(a)Bi(b)Fe(c)X(d)Y(e)Z(f)O(g)・・・(1) [式(1)中、XはNiおよびCoの中から選ばれる1種以上の元素を表し、YはK、RbおよびCsの中から選ばれる1種以上の元素を表し、ZはBe、Mg、S、Ca、Sr、Ba、Te、Se、Ce、Ge、Mn、Zn、Cr、Ag、Sb、Pb、As、B、P、Nb、Cu、W、Cd、Sn、Al、ZrおよびTiの中から選ばれる1種以上の元素を表わす。a、b、c、d、e、f、gは各元素の原子比率を表わし、a=12のとき、b=0.1〜10、c=0.1〜20、d=2〜20、e=0.01〜2、f=0〜4であり、gは前記各成分の原子価を満足するに必要な酸素の原子数である。]

IPC (3件)：

C07C 5/48 , B01J 23/88 , C07C 11/167

FI (3件)：

C07C5/48 , B01J23/88 Z , C07C11/167

Fターム (76件)：

4G169AA02 , 4G169AA03 , 4G169AA08 , 4G169BA02A , 4G169BA02B , 4G169BA37 , 4G169BB06A , 4G169BB06B , 4G169BC03A , 4G169BC05A , 4G169BC06A , 4G169BC06B , 4G169BC09A , 4G169BC10A , 4G169BC11A , 4G169BC12A , 4G169BC13A , 4G169BC16A , 4G169BC21A , 4G169BC22A , 4G169BC23A , 4G169BC25A , 4G169BC25B , 4G169BC26A , 4G169BC27A , 4G169BC31A , 4G169BC32A , 4G169BC35A , 4G169BC36A , 4G169BC43A , 4G169BC50A , 4G169BC51A , 4G169BC55A , 4G169BC58A , 4G169BC59A , 4G169BC59B , 4G169BC60A , 4G169BC62A , 4G169BC66A , 4G169BC66B , 4G169BC67A , 4G169BC68A , 4G169BD03A , 4G169BD07A , 4G169BD08A , 4G169BD09A , 4G169BD10A , 4G169CB07 , 4G169CB20 , 4G169FB08 , 4G169FB15 , 4G169FB30 , 4G169FB57 , 4G169FC08 , 4H006AA02 , 4H006AC12 , 4H006BA04 , 4H006BA05 , 4H006BA06 , 4H006BA07 , 4H006BA09 , 4H006BA10 , 4H006BA11 , 4H006BA12 , 4H006BA13 , 4H006BA14 , 4H006BA16 , 4H006BA19 , 4H006BA20 , 4H006BA33 , 4H006BA60 , 4H006BA81 , 4H006BC32 , 4H006BE30 , 4H039CA21 , 4H039CC10

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