ウェハ保管用カセット及び半導体製造装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：長谷川芳樹 , 山田行一 , 鈴木康仁
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-314385
公開番号（公開出願番号）：特開2003-124295
特許番号：特許第3866954号
出願日： 2001年10月11日
公開日（公表日）： 2003年04月25日
請求項（抜粋）：

【請求項1】表面に複数の溝が形成されたステージと、前記ステージに対して前記溝の長手方向に摺動可能であり且つ前記長手方向の直角方向に拘束されるように前記溝のそれぞれに配置され、一部が前記表面から突出している、ウェハを支持するための支持部材と、を備えるウェハ保管用カセット。

IPC (1件)：

H01L 21/683 ( 200 6.01)

FI (1件)：

H01L 21/68 N

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