特許
J-GLOBAL ID:201103045943440686

無電解メッキ方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 大澤 豊 ,  大澤 敬
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2001-527015
特許番号:特許第4498652号
出願日: 2000年09月22日
請求項(抜粋):
【請求項1】ある無電解メッキ浴に浸漬しても直接は無電解メッキ膜を析出させられない材料からなる被メッキ体の表面の一部に、前記無電解メッキ浴にて無電解メッキ膜が表面に析出可能な金属からなる金属膜を形成するか又は該金属を接触させる工程と、 前記金属膜を形成するか又は前記金属を接触させた被メッキ体を前記無電解メッキ浴に浸漬して、前記金属膜又は金属を含む該被メッキ体の表面全体に無電解メッキ膜を形成する工程と、 前記金属膜又は金属とそれを被覆する部分の無電解メッキ膜を前記被メッキ体から除去する工程と、 該工程を経た前記被メッキ体を再び前記無電解メッキ浴に浸漬する工程とを有する無電解メッキ方法。
IPC (3件):
C23C 18/31 ( 200 6.01) ,  C23C 18/16 ( 200 6.01) ,  H01L 35/34 ( 200 6.01)
FI (3件):
C23C 18/31 A ,  C23C 18/16 B ,  H01L 35/34
引用特許:
出願人引用 (2件)
  • 特開昭59-053667
  • 特開昭50-147437
審査官引用 (2件)
  • 特開昭59-053667
  • 特開昭50-147437

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