特許

J-GLOBAL ID：201103045978240345

プラズマ処理装置

発明者： 白米 茂 ,  荒巻 徹
出願人/特許権者： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
代理人 (1件)： 特許業務法人 武和国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-185672
公開番号（公開出願番号）：特開2011-040528
出願日： 2009年08月10日
公開日（公表日）： 2011年02月24日
要約：

【課題】所望のウエハ温度分布を実現できるウエハ載置用電極を低コストで提供する。【解決手段】真空容器、該容器内に処理ガスを導入する処理ガスの導入路、導入した処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成するプラズマ生成手段を備え、前記真空処理容器内に配置した試料台上に試料を載置し、載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、前記試料台は、金属製の本体1と、該本体内に形成した少なくとも2つの流路4A,4Bを備え、前記2つの流路の断面形状は相互に相違する。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

真空容器、該容器内に処理ガスを導入する処理ガスの導入路、導入した処理ガスに高周波エネルギを供給してプラズマを生成するプラズマ生成手段を備え、前記真空処理容器内に配置した試料台上に試料を載置し、載置した試料にプラズマ処理を施すプラズマ処理装置において、 前記試料台は、金属製の本体と、該本体内に形成した少なくとも2つの流路を備え、前記2つの流路の断面形状は相互に相違することを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (2件)：

H01L 21/306 ,  H01L 21/683

FI (2件)：

H01L21/302 101G ,  H01L21/68 N

Fターム (20件)：

5F004AA01 ,  5F004AA16 ,  5F004BA14 ,  5F004BB07 ,  5F004BB11 ,  5F004BB22 ,  5F004BB25 ,  5F004BB28 ,  5F004BB29 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CA06 ,  5F031CA02 ,  5F031HA03 ,  5F031HA16 ,  5F031HA38 ,  5F031MA28 ,  5F031MA30 ,  5F031MA32 ,  5F031PA11