特許
J-GLOBAL ID:201103046235000435
磁気ディスク基板用テクスチャリング加工液
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
池田 治幸
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-231097
公開番号(公開出願番号):特開2002-312928
特許番号:特許第4094801号
出願日: 2000年07月31日
公開日(公表日): 2002年10月25日
請求項(抜粋):
【請求項1】 磁気ディスク基板の一面に磁気ヘッドの吸着を防止するための同心円状の微小な条痕を設けるテクスチャリング加工のための水性の磁気ディスク基板用テクスチャリング加工液であって、
界面活性剤として単独で0.01〜50重量%の炭素数が12のラウリン酸トリエタノールアミン塩と、0.01〜1重量%の中心粒径が0.01〜1μmのダイヤモンド粉とを含み、表面張力が23×10-3N/m以下であることを特徴とする磁気ディスク基板用テクスチャリング加工液。
IPC (4件):
G11B 5/84 ( 200 6.01)
, B24B 37/00 ( 200 6.01)
, C09K 3/14 ( 200 6.01)
, B24B 1/00 ( 200 6.01)
FI (4件):
G11B 5/84 A
, B24B 37/00 H
, C09K 3/14 550 F
, B24B 1/00 D
引用特許:
審査官引用 (10件)
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研磨剤スラリ-
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-183259
出願人:株式会社岡本工作機械製作所
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磁気記録媒体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-357376
出願人:三菱化学株式会社
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テクスチャリング加工用組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-088406
出願人:昭和電工株式会社
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特開平2-158683
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研磨液組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平10-049482
出願人:花王株式会社
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特開平4-201069
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特開平2-158683
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特開平4-201069
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特開平2-158683
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特開平4-201069
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