特許

J-GLOBAL ID：201103046509505431

多結晶シリコン膜の形成方法

発明者： 本間 哲哉
出願人/特許権者： 日本電気株式会社
代理人 (1件)： 京本 直樹 (外2名)
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願平1-072521
公開番号（公開出願番号）：特開平2-251135
特許番号：特許第2730156号
出願日： 1989年03月24日
公開日（公表日）： 1990年10月08日
請求項（抜粋）：

【請求項1】酸素原子を含まない有機溶剤中に化学式(R-Si)8で示されるオクタシュラキュバン、又は化学式で示されるパーシラポリアセチレン、又は化学式で示されるラダーポリシランにそれぞれ代表される酸素原子を含まない有機シリコン化合物(ただし、R:アルキル基,n:正の整数)を少くとも1種類溶解した塗布溶液をシリコン基板上に塗布したのち、不活性ガス中で熱処理することを特徴とする多結晶シリコン膜の形成方法。

IPC (4件)：

H01L 21/208 ,  C01B 33/02 ,  C07F 7/08 ,  C23C 18/02

FI (5件)：

H01L 21/208 Z ,  C01B 33/02 D ,  C01B 33/02 E ,  C07F 7/08 W ,  C23C 18/02