誘電体層を用いたリフレクタおよびその製造方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：特許業務法人山王坂特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-068548
公開番号（公開出願番号）：特開2011-203359
出願日： 2010年03月24日
公開日（公表日）： 2011年10月13日
要約：

【課題】高い増反射効果を示す曲面リフレクタを提供する。【解決手段】曲面形状の金属反射面22上に積層された複数層からなる誘電体層23は、光源10から入射する光線の入射角に応じて膜厚が分布している。入射角が大きい領域5は膜厚が厚く、入射角が小さい領域2は膜厚が薄く形成されている。例えば、光源10から入射する光線の主軸6方向についてを膜厚Lを一定とする。誘電体層は、増反射膜の構造とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

曲面形状の金属反射面と、前記金属反射面上に積層された複数層からなる誘電体層とを備え、前記誘電体層は、光源から入射する光線の主軸方向についての膜厚が一定であることを特徴とするリフレクタ。

IPC (6件)：

G02B 5/10 , G02B 5/28 , G02B 5/26 , G02F 1/133 , F21S 8/10 , F21S 2/00

FI (6件)：

G02B5/10 , G02B5/28 , G02B5/26 , G02F1/13357 , F21S8/10 182 , F21S2/00 310

Fターム (27件)：

2H042DA02 , 2H042DA04 , 2H042DA08 , 2H042DC02 , 2H042DD05 , 2H042DE04 , 2H048FA05 , 2H048FA07 , 2H048FA09 , 2H048FA15 , 2H048FA24 , 2H048GA04 , 2H048GA07 , 2H048GA32 , 2H048GA60 , 2H048GA61 , 2H191FA33Z , 2H191FA37Z , 2H191FA85Z , 2H191FB12 , 2H191LA31 , 3K243AA01 , 3K243AA08 , 3K243AA12 , 3K243AC06 , 3K243BB01 , 3K243BE09

引用特許：

審査官引用 (5件)

特開平4-251238
光源装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2006-030211 出願人：株式会社島津製作所
特開平1-017005

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