特許
J-GLOBAL ID：201103046702263836
シリカメソ構造体の製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
吉田 勝広
, 近藤 利英子
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-005813
公開番号（公開出願番号）：特開2001-058812
特許番号：特許第4250287号
出願日： 2000年01月06日
公開日（公表日）： 2001年03月06日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 高分子表面上に配置されている管状のメソ細孔を有するシリカメソ構造体の製造方法であって、
(i)上記高分子表面を構成する高分子化合物の分子鎖が高分子表面に対して平行な所定の方向に配向している高分子表面を用意する工程;及び
(ii)上記高分子化合物の分子鎖と界面活性剤分子との化学的相互作用によって、界面活性剤の分子を、高分子化合物の分子鎖と平行に並ばせることによって該分子鎖の配向方向に直交する方向に配向させ、その外側にシリカが存在しているロッド状の界面活性剤ミセル構造を形成して、内部に界面活性剤が充填され、且つ、高分子化合物の分子鎖の配向方向とほぼ直交する方向に配向したメソ細孔を有するシリカメソ構造体を形成する工程、
を有することを特徴とするシリカメソ構造体の製造方法。
IPC (3件)：
C01B 37/02 ( 200 6.01)
, C01B 33/12 ( 200 6.01)
, C08J 7/12 ( 200 6.01)
C01B 37/02
, C01B 33/12 C
, C08J 7/12 Z
