特許

J-GLOBAL ID：201103046710017747

CVD,ALE装置用ガラス基板収納治具

発明者： 末松 和重 ,  杉浦 和彦 ,  岡田 伸彦 ,  田中 保之
出願人/特許権者： 株式会社デンソー
代理人 (4件)： 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  篠崎 正海 ,  西山 雅也
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-058004
公開番号（公開出願番号）：特開2001-240972
特許番号：特許第4211185号
出願日： 2000年02月29日
公開日（公表日）： 2001年09月04日
請求項（抜粋）：

【請求項1】原料ガスを使用して反応容器内で薄膜形成されるガラス基板を支持するためのCVD,ALE装置用ガラス基板収納治具において、この収納治具が、 ガラス基板の裏面を支持する裏面支持部と、 ガラス基板の4つの側面を支える上部カバー部、下部支持部及び左右側面支持部と、 より構成され、 少なくともガス流の下流に位置する該下部支持部がガラス基板の下辺表面を覆う押え壁を有していることを特徴とするCVD,ALE装置用ガラス基板収納治具。

IPC (2件)：

C23C 16/458 ( 200 6.01) ,  H01L 21/31 ( 200 6.01)

FI (2件)：

C23C 16/458 ,  H01L 21/31 B

引用特許：

出願人引用 (3件)

• 特開平4-345022
  
• 真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-024945   出願人：三菱重工業株式会社
• マスク及び真空処理装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-000046   出願人：日本真空技術株式会社