特許

J-GLOBAL ID：201103046909795609

ヒドロキシルラジカル濃度の測定方法及び測定装置

発明者： 東 昇 ,  苅山 直美 ,  尾崎 幸洋
出願人/特許権者： 倉敷紡績株式会社 ,  学校法人関西学院
代理人 (1件)： 特許業務法人 ユニアス国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-112443
公開番号（公開出願番号）：特開2011-242166
出願日： 2010年05月14日
公開日（公表日）： 2011年12月01日
要約：

【課題】 更なる添加物との反応を必要とせず、インラインで分光学的な測定が正確に行えるヒドロキシルラジカル濃度の測定方法及び測定装置を提供する。【解決手段】 本発明のヒドロキシルラジカル濃度の測定装置は、ヒドロキシルラジカルを含む測定対象液1に、ヒドロキシルラジカルと瞬時に反応する反応物を添加する手段2と、添加された測定対象液を導入して、添加時から遅れて前記反応物を分光学的に測定する手段3と、その測定時における前記反応物の副反応による前記添加時からの減量分に関するデータから、前記添加時における前記反応物の反応による減量分を算出する手段4とを含む。【選択図】 図5

請求項（抜粋）：

ヒドロキシルラジカルを含む測定対象液に、ヒドロキシルラジカルと瞬時に反応する反応物を添加する工程と、 その添加時から遅れて前記反応物を分光学的に測定する工程と、 その測定時における前記反応物の副反応による前記添加時からの減量分を考慮して、前記添加時における前記反応物の反応による減量分を算出する工程と、を含むヒドロキシルラジカル濃度の測定方法。

IPC (2件)：

G01N 31/00 ,  G01N 21/78

FI (2件)：

G01N31/00 L ,  G01N21/78 Z

Fターム (13件)：

2G042BB10 ,  2G042BE03 ,  2G042DA03 ,  2G054AA02 ,  2G054AB07 ,  2G054BB10 ,  2G054CA08 ,  2G054CE02 ,  2G054EA04 ,  2G054EB02 ,  2G054EB03 ,  2G054GA02 ,  2G054GB01