特許
J-GLOBAL ID：201103046913258030
形状測定装置および該方法
発明者：
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (3件)：
小谷 悦司
, 小谷 昌崇
, 櫻井 智
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2010-006653
公開番号（公開出願番号）：特開2011-145194
出願日： 2010年01月15日
公開日（公表日）： 2011年07月28日
要約：
【課題】本発明は、測定対象物の表面形状をより高い精度で測定することができる形状測定装置および形状測定方法を提供する。【解決手段】本発明の形状測定装置Sは、光へテロダイン干渉を行う一面側測定部2および他面側測定部3によって測定対象物WAの厚さを測定するものであって、一面側測定部2が測定対象物に複数の測定光を照射することで、1回の測定で測定対象物WAにおける厚さと表面形状とを測定する。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
測定光を生成する光源部と、
前記光源部で生成された測定光を一面側測定光と他面側測定光とに分ける光分岐部と、
前記光分岐部で分けられた一面側測定光を第1一面側測定光と第2一面側測定光とにさらに分け、光ヘテロダイン干渉によって、前記分けられた第1一面側測定光における測定対象物の一方面に照射されて反射された照射後一面側測定光と前記分けられた第2一面側測定光とを干渉させた照射後一面側干渉光を生成するとともに、光ヘテロダイン干渉によって、前記分けられた第1一面側測定光における前記測定対象物の一方面に照射される前の照射前一面側測定光と前記分けられた第2一面側測定光とを干渉させた照射前一面側干渉光を生成する一面側測定部と、
前記光分岐部で分けられた他面側測定光を第1他面側測定光と第2他面側測定光とにさらに分け、光ヘテロダイン干渉によって、前記分けられた第1他面側測定光における前記測定対象物の他方面に照射されて反射された照射後他面側測定光と前記分けられた第2他面側測定光とを干渉させた照射後他面側干渉光を生成するとともに、光ヘテロダイン干渉によって、前記分けられた第1他面側測定光における前記測定対象物の他方面に照射される前の照射前他面側測定光と前記分けられた第2他面側測定光とを干渉させた照射前他面側干渉光を生成する他面側測定部と、
一面側測定部によって生成された照射前一面側干渉光および照射後一面側干渉光を位相検波することによって得られた一面側位相と、他面側測定部によって生成された照射前他面側干渉光および照射後他面側干渉光を位相検波することによって得られた他方面側位相との位相差から前記測定対象物における前記一方面から前記他方面までの距離を前記測定対象物の厚さとして求める演算部とを備え、
前記一面側測定部は、複数の照射後一面側干渉光を生成するために、前記測定対象物の一方面に対し複数の箇所に複数の第1一面側測定光を照射して反射させ複数の照射後一面側測定光を得、
前記演算部は、前記複数の箇所のそれぞれについて、前記一面側測定部によって生成された照射前一面側干渉光および照射後一面側干渉光を位相検波することによって得られた一面側位相に基づいて予め設定された基準面から前記測定対象物の前記一方面までの距離を求めることによって、前記複数の箇所での前記測定対象物における表面形状をさらに求めること
を特徴とする形状測定装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (48件)：
2F064AA09
, 2F064EE01
, 2F064FF01
, 2F064FF06
, 2F064GG02
, 2F064GG12
, 2F064GG22
, 2F064GG23
, 2F064GG24
, 2F064GG33
, 2F064GG38
, 2F064GG39
, 2F064GG44
, 2F064GG49
, 2F064GG55
, 2F064GG70
, 2F064HH01
, 2F064HH03
, 2F064HH04
, 2F064JJ05
, 2F065AA30
, 2F065AA46
, 2F065AA53
, 2F065BB02
, 2F065CC19
, 2F065DD03
, 2F065FF48
, 2F065FF49
, 2F065FF51
, 2F065GG05
, 2F065GG22
, 2F065JJ05
, 2F065JJ18
, 2F065LL00
, 2F065LL02
, 2F065LL12
, 2F065LL33
, 2F065LL36
, 2F065LL37
, 2F065LL42
, 2F065LL57
, 2F065MM03
, 2F065MM04
, 2F065NN06
, 2F065PP12
, 2F065QQ25
, 2F065SS03
, 2F065SS13
