特許
J-GLOBAL ID:201103047150695830

撥液レジスト組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (3件): 鮫島 睦 ,  田村 恭生 ,  新免 勝利
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-049202
公開番号(公開出願番号):特開2011-184517
出願日: 2010年03月05日
公開日(公表日): 2011年09月22日
要約:
【課題】保存安定性がよく、成膜時に異物の発生が無く、撥液性に優れた撥液レジスト組成物の提供。【解決手段】(a1)炭素数4〜8のフルオロアルキル基(炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい)を有するα位置換アクリレート100重量部、(a2)エポキシ基含有モノマー5〜80重量部および(a3)(R1O)nR2で示されるアルキレンオキサイド基を含有するモノマー10〜40重量部を繰り返し単位とするフッ素系ポリマー(A1)を含有し、フッ素系ポリマー(A1)のフッ素濃度が15〜40重量%および重量平均分子量が3,000〜20,000である撥液レジスト組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
撥液レジスト組成物であって、 (a1)炭素数4〜8のフルオロアルキル基(炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい)を有するα位置換アクリレート 100重量部 [α位の置換基は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基(但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子または塩素原子)、シアノ基、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のフルオロアルキル基、置換もしくは非置換のベンジル基、置換もしくは非置換のフェニル基、または炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状アルキル基である。]
IPC (9件):
C08F 220/22 ,  G03F 7/004 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/027 ,  G02B 5/20 ,  G02B 1/04 ,  G02B 5/00 ,  H01L 21/027 ,  G03F 7/038
FI (10件):
C08F220/22 ,  G03F7/004 505 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/033 ,  G03F7/027 502 ,  G02B5/20 101 ,  G02B1/04 ,  G02B5/00 B ,  H01L21/30 502R ,  G03F7/038 501
Fターム (54件):
2H042AA09 ,  2H042AA11 ,  2H042AA26 ,  2H048BA11 ,  2H048BA43 ,  2H048BA47 ,  2H048BA48 ,  2H048BA55 ,  2H048BA64 ,  2H048BB01 ,  2H048BB41 ,  2H125AC35 ,  2H125AD02 ,  2H125AM23P ,  2H125AM25P ,  2H125AM26P ,  2H125AM27P ,  2H125AM32P ,  2H125AM34P ,  2H125AN39P ,  2H125BA16P ,  2H125CA18 ,  2H125CB02 ,  2H125CC01 ,  2H125CC13 ,  2H125CD06P ,  2H125CD08P ,  2H125CD34 ,  4J100AJ01S ,  4J100AJ02S ,  4J100AJ08S ,  4J100AJ09S ,  4J100AL08P ,  4J100AL08R ,  4J100AL10Q ,  4J100AL21P ,  4J100AL26P ,  4J100AM05P ,  4J100BA08R ,  4J100BA34P ,  4J100BA51P ,  4J100BA58P ,  4J100BA59P ,  4J100BB18P ,  4J100BC04P ,  4J100BC43P ,  4J100BC44P ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA29 ,  4J100DA37 ,  4J100FA04 ,  4J100JA38

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