特許
J-GLOBAL ID:201103047150695830
撥液レジスト組成物
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (3件):
鮫島 睦
, 田村 恭生
, 新免 勝利
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2010-049202
公開番号(公開出願番号):特開2011-184517
出願日: 2010年03月05日
公開日(公表日): 2011年09月22日
要約:
【課題】保存安定性がよく、成膜時に異物の発生が無く、撥液性に優れた撥液レジスト組成物の提供。【解決手段】(a1)炭素数4〜8のフルオロアルキル基(炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい)を有するα位置換アクリレート100重量部、(a2)エポキシ基含有モノマー5〜80重量部および(a3)(R1O)nR2で示されるアルキレンオキサイド基を含有するモノマー10〜40重量部を繰り返し単位とするフッ素系ポリマー(A1)を含有し、フッ素系ポリマー(A1)のフッ素濃度が15〜40重量%および重量平均分子量が3,000〜20,000である撥液レジスト組成物。【選択図】なし
請求項(抜粋):
撥液レジスト組成物であって、
(a1)炭素数4〜8のフルオロアルキル基(炭素原子間にエーテル性酸素原子を有していてもよい)を有するα位置換アクリレート 100重量部
[α位の置換基は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、CFX1X2基(但し、X1およびX2は、水素原子、フッ素原子または塩素原子)、シアノ基、炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状のフルオロアルキル基、置換もしくは非置換のベンジル基、置換もしくは非置換のフェニル基、または炭素数1〜20の直鎖状もしくは分岐状アルキル基である。]
IPC (9件):
C08F 220/22
, G03F 7/004
, G03F 7/033
, G03F 7/027
, G02B 5/20
, G02B 1/04
, G02B 5/00
, H01L 21/027
, G03F 7/038
FI (10件):
C08F220/22
, G03F7/004 505
, G03F7/004 501
, G03F7/033
, G03F7/027 502
, G02B5/20 101
, G02B1/04
, G02B5/00 B
, H01L21/30 502R
, G03F7/038 501
Fターム (54件):
2H042AA09
, 2H042AA11
, 2H042AA26
, 2H048BA11
, 2H048BA43
, 2H048BA47
, 2H048BA48
, 2H048BA55
, 2H048BA64
, 2H048BB01
, 2H048BB41
, 2H125AC35
, 2H125AD02
, 2H125AM23P
, 2H125AM25P
, 2H125AM26P
, 2H125AM27P
, 2H125AM32P
, 2H125AM34P
, 2H125AN39P
, 2H125BA16P
, 2H125CA18
, 2H125CB02
, 2H125CC01
, 2H125CC13
, 2H125CD06P
, 2H125CD08P
, 2H125CD34
, 4J100AJ01S
, 4J100AJ02S
, 4J100AJ08S
, 4J100AJ09S
, 4J100AL08P
, 4J100AL08R
, 4J100AL10Q
, 4J100AL21P
, 4J100AL26P
, 4J100AM05P
, 4J100BA08R
, 4J100BA34P
, 4J100BA51P
, 4J100BA58P
, 4J100BA59P
, 4J100BB18P
, 4J100BC04P
, 4J100BC43P
, 4J100BC44P
, 4J100CA05
, 4J100CA06
, 4J100DA01
, 4J100DA29
, 4J100DA37
, 4J100FA04
, 4J100JA38
前のページに戻る