膜モジュールの洗浄方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：重野剛
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-044649
公開番号（公開出願番号）：特開2001-232161
特許番号：特許第4538881号
出願日： 2000年02月22日
公開日（公表日）： 2001年08月28日
請求項（抜粋）：

【請求項1】酸化剤を含むアルカリ溶液と還元剤を含む酸溶液を用いて膜モジュールを洗浄した後、該酸化剤を含むアルカリ溶液による膜洗浄で排出される洗浄排液と該還元剤を含む酸溶液による膜洗浄で排出される洗浄排液とを混合する膜モジュールの洗浄方法であって、該混合液中のアルカリと酸とがほぼ中和すると共に、酸化剤と還元剤とがほぼ等当量となるように、前記酸化剤を含むアルカリ溶液中の酸化剤及びアルカリ濃度と還元剤を含む酸溶液中の還元剤及び酸濃度を設定することを特徴とする膜モジュールの洗浄方法。

IPC (1件)：