特許
J-GLOBAL ID:201103047401919490

UV処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 高橋 詔男 (外3名)
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-008468
公開番号(公開出願番号):特開2000-208465
特許番号:特許第3176349号
出願日: 1999年01月14日
公開日(公表日): 2000年07月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 チャンバー内を搬送される基板にUV光を照射して該基板上の汚染物を分解除去するUV処理装置であって、概略円柱状の形態を有し、前記基板の搬送方向に対して直交方向に延在するように前記基板の搬送路上方に設けられたUV光発生用ランプと、前記UV光発生用ランプを囲うように設けられ、前記基板に対面する位置にオゾン吐出口としての孔が形成されたガラス管と、前記ガラス管の内部にドライエアーを供給するためのドライエアー供給管と、を備え、前記ガラス管の内部でオゾンを生成して前記吐出口から前記基板に向けて噴出させると共に、前記ガラス管の内部での反応に寄与しなかったUV光は、前記ガラス管を透過して前記基板に照射されることを特徴とするUV処理装置。
IPC (2件):
H01L 21/304 645 ,  H01L 21/3065
FI (2件):
H01L 21/304 645 D ,  H01L 21/302 H
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特公平6-012766
  • 特公平4-009373
  • 特許第2524869号

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