特許
J-GLOBAL ID：201103047746970692
真空処理装置
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (7件)：
吉武 賢次
, 永井 浩之
, 岡田 淳平
, 名塚 聡
, 森 秀行
, 勝沼 宏仁
, 宮腰 健介
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-594151
特許番号：特許第4312965号
出願日： 2000年01月11日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 真空処理室と、
この真空処理室との間に設けられた真空側ゲートバルブと、当該真空側ゲートバルブとは反対の側に設けられた大気側ゲートバルブとを有し、前記真空側ゲートバルブを介して真空処理室と連通する真空予備室と、
この真空予備室内に設けられ、前記真空処理室に対して被処理体を搬入・搬出する搬送アームと、
前記真空予備室内に設けられた、被処理体を一時的に支持するための第1および第2のバッファと
を備え、
前記第1のバッファを前記真空処理室側に、前記第2のバッファを前記大気側ゲートバルブ側に、それぞれ配置し、前記第1および第2のバッファ並びに前記真空処理室を一直線上に配置すると共に、
前記搬送アームは、屈伸自在のアーム部と、被処理体を支持する支持部とを有すると共に、前記アーム部の屈伸運動に伴って、前記支持部が姿勢を保持しつつ旋回することなく前記一直線に対応する直進運動経路に沿ってのみ連続的に直進運動するように構成されている、ことを特徴とする真空処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/677 ( 200 6.01)
, B65G 49/07 ( 200 6.01)
H01L 21/68 A
, B65G 49/07 C
