特許

J-GLOBAL ID：201103047755479020

露光装置、表面処理方法及びデバイス製造方法

発明者： 寺島 茂
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (2件)： 阿部 琢磨 ,  黒岩 創吾
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-288815
公開番号（公開出願番号）：特開2011-129800
出願日： 2009年12月21日
公開日（公表日）： 2011年06月30日
要約：

【課題】 真空容器内での放電の回避の点で有利な露光装置を提供すること。【解決手段】 光源と、真空容器と,前記真空容器内に配置された照明光学系及び投影光学系とを有し、前記真空容器内で前記照明光学系を介して前記光源からの光で原版を照明し、前記投影光学系を介して前記原版からの光を投影して基板を露光する露光装置は、前記真空容器内に配置され、第1の値の電圧が印加されて前記原版を保持する静電チャックと、前記投影光学系中の光学素子を表面処理する気体を前記真空容器内に供給する供給手段と、前記第1の値より小さい第2の値に前記静電チャックへの印加電圧を低減させた状態で前記供給手段に前記気体を供給させる制御手段と、を有するものとする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

光源と、真空容器と、前記真空容器内に配置された照明光学系及び投影光学系とを有し、前記真空容器内で前記照明光学系を介して前記光源からの光で原版を照明し、前記投影光学系を介して前記原版からの光を投影して基板を露光する露光装置であって、 前記真空容器内に配置され、第1の値の電圧が印加されて前記原版を保持する静電チャックと、 前記投影光学系中の光学素子を表面処理する気体を前記真空容器内に供給する供給手段と、 前記第1の値より小さい第2の値に前記静電チャックへの印加電圧を低減させた状態で前記供給手段に前記気体を供給させる制御手段と、 を有することを特徴とする露光装置。

IPC (1件)：

H01L 21/027

FI (3件)：

H01L21/30 503D ,  H01L21/30 503C ,  H01L21/30 531A

Fターム (8件)：

5F046CC08 ,  5F046CC09 ,  5F046DA06 ,  5F046DA07 ,  5F146CC08 ,  5F146CC09 ,  5F146DA06 ,  5F146DA07