特許
J-GLOBAL ID:201103049170649284
SiGe結晶およびその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
石原 詔二
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-164114
公開番号(公開出願番号):特開2001-348218
特許番号:特許第3952354号
出願日: 2000年06月01日
公開日(公表日): 2001年12月18日
請求項(抜粋):
【請求項1】 チョクラルスキー法によりSixGe1-x(0<X<1)の結晶を引き上げる際に、引上げ結晶のドーパント濃度が、p型の場合は0.8×1019〜1.5×1020atoms/cm3の範囲、n型の場合は4×1018〜8×1019atoms/cm3になるようにドープ量を制御して結晶を引き上げるSixGe1-x(0<X<1)結晶の製造方法であって、前記結晶を構成する結晶粒の大きさが5×10-5mm3以上であり、電気抵抗率が1×10-5〜1×10-4Ωmの範囲であることを特徴とする熱電素子材料として用いられるSixGe1-x(0<X<1)結晶の製造方法。
IPC (4件):
C01B 33/02 ( 200 6.01)
, C30B 29/52 ( 200 6.01)
, H01L 35/14 ( 200 6.01)
, H01L 35/34 ( 200 6.01)
FI (4件):
C01B 33/02 E
, C30B 29/52
, H01L 35/14
, H01L 35/34
引用特許:
出願人引用 (4件)
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熱電変換材料の製造法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-264725
出願人:出光石油化学株式会社
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熱電材料および熱電素子
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-139587
出願人:日産自動車株式会社
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特開平4-285096
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特開昭61-149453
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審査官引用 (4件)